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Institut Silizium-Photovoltaik

Wissenschaftliche Fragestellungen

Grenzflächenrekombination

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Abb. 1: Transientes SPV(t)-Signal einer a-Si:H(n)/c-Si(p)-Heterostruktur für unterschiedliche Gasphasen-Dotierkonzentrationen der amorphen a-Si:H-Schicht. Beachte: Die längste Abklingzeit wird nicht für die am effektivsten dotierende Gasphasenkonzentration (10000 ppm) sondern für einen eher moderaten Wert (2500  ppm) erreicht.